等離子體是指弱電解質(zhì)蒸氣，是電子器件、正離子、分子、分子結(jié)構(gòu)或氧自由基的結(jié)合體。清洗時，高能電子器件的沖擊反映蒸汽的分子結(jié)構(gòu)，使其離解或削弱電解質(zhì)，應用引起的各種粒子負電子在表面被清洗或與被清洗表面發(fā)生化學反應，從而在商業(yè)上消除各種空氣污染物。還可以改善材料本身的表面功能，那么Harrick等離子清洗機都有哪幾種清洗方式？
 

　　

　　1、化學反應

　　

　　血漿中堿性酶的氧自由基與材料表面的有機化合物反應，也叫PE。用co2清洗，使非揮發(fā)性有機化合物變得揮發(fā)性，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水。有機清洗的好處是清洗率高，選擇性好，能有效清洗有機化學空氣污染物。主要缺點是轉(zhuǎn)化的金屬氧化物可能會在材料表面再次產(chǎn)生。在引線鍵合工藝中，金屬氧化物是最不期望出現(xiàn)的，通過適當選擇工藝的主要參數(shù)可以避免這種缺陷。

　　

　　2、Harrick等離子清洗機物理反應

　　

　　也叫磁控濺射刻蝕(SPE)是利用等離子體中的正離子進行純物理撞擊，去除附著在材料表面的分子。氬氣用于清洗，正氬離子以足夠的動能對電子器件表面進行負沖擊，沖擊力足以去除所有灰塵。聚合物中的生物大分子被離子鍵分離成小分子水，由機械泵氣化排出。根據(jù)氬等離子體清洗，可以改變材料表面的外部經(jīng)濟外觀，使材料在分子結(jié)構(gòu)水平上越來越“粗糙”，這可以大大提高表面特異性并推進表面的粘附。氬氣低溫等離子體的好處是不容易將所有金屬氧化物留在飾面材料表面。缺陷很可能導致過度侵蝕或空氣污染物顆粒積聚在其他不可預料的區(qū)域，但是這種缺陷可以通過微調(diào)主要工藝參數(shù)來控制。

　　

　　3、Harrick等離子清洗機物理和化學反應同時存在

　　

　　物理反應與化學反應均起關鍵功效的清洗。例如，當使用Ar和O2的混合物進行在線等離子體清洗的整個過程時，化學反應速率必須比單獨使用Ar或O2更快。正離子加速后，氬氣產(chǎn)生的機械能可以反映氧離子。因此，環(huán)境污染不太樂觀的材料表面可以用物理方法消除。